首页 >> 产品中心 >> 理化试验 >> 研磨抛光 >> 磨抛机 TargetSystem

磨抛机 TargetSystem

简要描述:TargetSystem用于可见目标和隐藏目标的自动目标制备TargetSystem特性显著缩减制备时间不受操作人员技能影响的再现性无需成本昂贵的磨料薄膜TargetSystem设计用于微电子组件和扁平化目标制备

  • 产品型号:
  • 厂商性质:代理商
  • 更新时间:2023-10-20
  • 访  问  量:503
详细资料

TargetSystem

用于可见目标和隐藏目标的自动目标制备

TargetSystem 特性

  • 显著缩减制备时间
  • 不受操作人员技能影响
  • 的再现性
  • 无需成本昂贵的磨料薄膜

TargetSystem 设计用于微电子组件和扁平化目标制备。这是款失效分析工具,可对可见目标和隐藏目标进行实时对齐和测量,例如微型穿孔和 BGA。系统精度高达 +/- 5 µm。

如果你对磨抛机 TargetSystem感兴趣,想了解更详细的产品信息,填写下表直接与厂家联系:

留言框

  • 产品:

  • 您的单位:

  • 您的姓名:

  • 联系电话:

  • 常用邮箱:

  • 省份:

  • 详细地址:

  • 补充说明:

  • 验证码:

    请输入计算结果(填写阿拉伯数字),如:三加四=7
  • 上一篇:磨抛机 AbraPlan
    下一篇:16EWR-V
  • 返回
  • 北京德力爱得测控技术有限公司(www.bjdailyaid.com)   总访问量:64888  管理登陆  技术支持:仪表网  sitemap.xml

    版权所有 © 2024 北京德力爱得测控技术有限公司  ICP备案号:京ICP备06044954号-4
    在线咨询 联系方式 二维码

    服务热线

    扫一扫,关注我们